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DLP650LNIR

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DLP 0.65 NIR WXGA S450 DMD

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产品详细信息

Illumination wavelength (Min) (nm) 800 Illumination wavelength (Max) (nm) 2000 Micromirror array size 1280 x 800 Chipset family DLP650LNIR, DLPC410, DLPR410, DLPA200, DLPLCR65NEVM, DLPLCRC410EVM Pattern rate, binary (Max) (Hz) 12500 Pixel data rate (Max) (Gbps) 12 Micromirror pitch (um) 10.8 Component type DMD Display resolution (Max) 1280 x 800 (WXGA) Pattern rate, 8-bit (Max) (Hz) 1563 Micromirror array orientation Orthogonal Micromirror driver support External Power consumption (mW) 1800 Thermal dissipation (°C/W) 0.5
Illumination wavelength (Min) (nm) 800 Illumination wavelength (Max) (nm) 2000 Micromirror array size 1280 x 800 Chipset family DLP650LNIR, DLPC410, DLPR410, DLPA200, DLPLCR65NEVM, DLPLCRC410EVM Pattern rate, binary (Max) (Hz) 12500 Pixel data rate (Max) (Gbps) 12 Micromirror pitch (um) 10.8 Component type DMD Display resolution (Max) 1280 x 800 (WXGA) Pattern rate, 8-bit (Max) (Hz) 1563 Micromirror array orientation Orthogonal Micromirror driver support External Power consumption (mW) 1800 Thermal dissipation (°C/W) 0.5
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CLGA (FYL) 149 718 mm² 22.3 x 32.2
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  • 具有超过 100 万个微镜的 1280 × 800 (WXGA) 阵列
    • 10.8µm 微镜间距
    • ±12° 微镜倾斜角（相对于平面）
    • 用于角落照明的 0.65 英寸对角线阵列
    • 0.5°C/W 耐热高效封装
  • 高效控制近红外光（800nm 到 2000nm）
    • DMD 上的高达 160W 的入射功率
    • 窗透射率 >98%（950nm 至 1150nm，单通道，两个窗面）
    • 窗透射率 >93%（850nm 至 2000nm，单通道，两个窗面）
    • 偏振无关型铝制微镜
  • 16 位 2xLVDS 400MHz 输入数据总线
  • 专用 DLPC410 控制器、DLPR410 PROM 和 DLPA200 微镜驱动器可确保可靠的高速运行
    • 二进制模式速率高达 12,500Hz
    • 全局、单块、双块和四块反射镜时钟脉冲（复位）运行模式
  • 具有超过 100 万个微镜的 1280 × 800 (WXGA) 阵列
    • 10.8µm 微镜间距
    • ±12° 微镜倾斜角（相对于平面）
    • 用于角落照明的 0.65 英寸对角线阵列
    • 0.5°C/W 耐热高效封装
  • 高效控制近红外光（800nm 到 2000nm）
    • DMD 上的高达 160W 的入射功率
    • 窗透射率 >98%（950nm 至 1150nm，单通道，两个窗面）
    • 窗透射率 >93%（850nm 至 2000nm，单通道，两个窗面）
    • 偏振无关型铝制微镜
  • 16 位 2xLVDS 400MHz 输入数据总线
  • 专用 DLPC410 控制器、DLPR410 PROM 和 DLPA200 微镜驱动器可确保可靠的高速运行
    • 二进制模式速率高达 12,500Hz
    • 全局、单块、双块和四块反射镜时钟脉冲（复位）运行模式
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DLP650LNIR 数字微镜器件可作为空间光线调制器 (SLM)，在工业设备中控制近红外 (NIR) 光并生成用于实现高级成像的高速图形。该器件采用了高效散热型封装，允许客户将 DMD 与高功率 NIR 激光照明相结合，从而提供动态数字印刷、烧结和打标解决方案。DLP650LNIR、DLPC410、DLPR410 和 DLPA200 芯片组可提供高达 12,500Hz 的 1 位图形速率及像素精确控制，因此设计人员可以设计出比传统控制激光器所允许的更加创新和精确的光学系统。

DLP650LNIR 数字微镜器件可作为空间光线调制器 (SLM)，在工业设备中控制近红外 (NIR) 光并生成用于实现高级成像的高速图形。该器件采用了高效散热型封装，允许客户将 DMD 与高功率 NIR 激光照明相结合，从而提供动态数字印刷、烧结和打标解决方案。DLP650LNIR、DLPC410、DLPR410 和 DLPA200 芯片组可提供高达 12,500Hz 的 1 位图形速率及像素精确控制，因此设计人员可以设计出比传统控制激光器所允许的更加创新和精确的光学系统。

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技术文档

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设计与开发

有关其他条款或所需资源，请点击下面的任何链接来查看详情页面。

评估板

DLPLCR65NEVM — DLP650LNIR DMD 评估模块

此 DLP 评估模块 (EVM) 包含 DLP650LNIR，后者是一个 0.65 NIR WXGA 系列 450 DMD，适用于使用 850nm 至 2000nm 近红外 (NIR) 照明源的应用。DLPLCR65NEVM 是适用于激光烧结、烧蚀、打标、编码、打印和其他使用近红外光源的应用的高级成像选项。在搭配 DLPLCRC410EVM 使用时，用户可以获得像素精确控制及高达 12,500Hz 的 1 位图形速率。
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评估板

DLPLCRC410EVM — DLPLCRC410 评估模块

DLPLCRC410EVM 是一个评估平台，可与另外五个基于 DMD 的 EVM 配对使用，用以展示光刻、3D 打印（SLS 和 SLA）、机器视觉、打标和编码等应用的先进光控制。此 EVM 可评估新的客户照明源、光学、算法和曝光过程，从而加快潜在的 DLP 技术评估过程，缩短客户学习周期并提高产品上市速度。
document-pdfAcrobat 用户指南
现货
数量限制: 5
评估板

OPTECKS-3P-DLP650LNIR-EVM — Optecks DLP650LNIR DMD evaluation module

The Optecks DLP650LNIR evaluation module (EVM) includes DLP650LNIR DMD, a 0.65" NIR WXA Series 450 DMD designed to be used in applications that operate in 850-2000 nm near-infrared (NIR) spectrum. Optecks DLP650LNIR EVM is an advanced imaging solution for laser sintering, ablation, marking, coding, (...)

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评估板

VIALUX-3P-SUPER-410 — 适用于 DLPC410 的 ViALUX SuperSpeed V 模块

ViALUX 的 SuperSpeed V 模块提供完整的子系统，其中包含 DLPC410 的控制器板、数字微镜器件（DLP650LNIR、DLP7000、DLP7000UV、DLP9500、DLP9500UV 或 .96 WUXGA DMD）和 ALP-4 控制器套件软件。工业级模块开箱即可支持高性能像素级控制。这些 DLP® 子系统针对新兴应用而设计，提供功能丰富的编程接口，可推动新产品的快速上市。

请访问下方的订购链接，了解完整的产品选项。
由 ViALUX 提供
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评估板

VISI-3P-LRS-MCX-WX-NIR — Visitech LUXBEAM Rapid System NIR

VISITECH 即将推出的 LRS-MCx-WX 光引擎提供了一种新的基于聚合物的粉末床熔融方法，可在投射的 2D 图像中提供超过 100W 的出色近红外功率。作为选择性激光烧结 (SLS) 传统技术的替代方案，新方法可提高粉末床熔融过程中各系统的生产效率，实现按顺序逐点、逐层对高分子材料加热。

由 VISITECH 提供
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光学模块

DLP-OMM-SEARCH — DLP® 产品第三方搜索工具

为了充分满足您的设计需求并缩短产品上市时间，DLP® 产品与各种第三方合作，从光学模块和硬件设计到专用软件和其他生产服务全方位为您提供帮助。在下方所列两款搜索工具中择一下载或两款全部下载，快速浏览我们的第三方供应商，或寻找特定光学模块来满足您的需求。列表中产品、软件和服务的生产者和管理者为独立的第三方，而非德州仪器 (TI)。

第三方资源可以使用以下两款搜索工具检索：

  • DLP 产品第三方供应商搜索工具 (DLP-3P-SEARCH) 能够检索可以设计或制造光学元件、硬件、软件和辅助技术的服务供应商
  • DLP 产品光学模块搜索工具 (DLP-OMM-SEARCH) (...)
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光学模块

OPTECKS-3P-SPARKNIR — Optecks DLP650LNIR DMD evaluation module

SPARK NIR 远心光学引擎设计用于宽高比为 16:9 的 0.65 英寸数字微镜器件（例如 DLP650LNIR）。所有光学元件均具有频谱范围为 600 - 1050nm 的高质量、防反射 (AR) 涂层。SPARK 光学引擎具备投影透镜可互换的功能，可以适配任何市售的 F 卡口摄像机镜头。SPARK 光学引擎包含强力均质器，用于激光应用时，可提高均匀性。

由 Optecks, LLC 提供
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应用软件和框架

VIALUX-3P-ALP-4 — ViALUX ALP-4.1 Controller Software Suite for DLPLCRC410 Evaluation Module

ViALUX 的 ALP-4.1 是一款附件软件包，与德州仪器 (TI) 提供的 DLPLCRC410 评估模块兼容。它支持内置硬件组件并包含相应的驱动器和控制器固件，并将 ViALUX 的 FPGA 逻辑设计用于 EVM 电路板。ALP-4.1 控制器套件支持所有使用 DLPC410 控制器的 DMD：DLP7000、DLP7000UV、DLP9500、DLP9500UV 和 DLP650LNIR。 

支持的刷新率
  • XGA：22 727Hz
  • 1080p：10 752Hz
  • WXGA：10 752Hz
Vialux
由 ViALUX 提供
转至第三方
仿真模型

DLP650LNIR IBIS Model

DLPM021.ZIP (32 KB) - IBIS Model
下载
仿真工具

DLPR410-IBIS — DLPR410 IBIS Model

IBIS file for the DLPR410 PROM device which supports the DLPC410, DLP650LNIR, DLP7000, DLP7000UV, DLP9500 and DLP9500UV.
由 Xilinx 提供
转至第三方
DMD 安装设计

Series 450 DMD Mounting & Electrical Interconnect Information (Rev. A)

DLPC132A.ZIP (7451 KB)
下载
DMD 安装设计

Series 450 DMD Mounting and Electrical Interconnect Information (Rev. A)

DLPR046A.ZIP (7451 KB)
下载
3D DMD 机械几何形状

DLP650LE/DLP650LNIR DMD With FYL Package (Series 450) 3D-CAD Geometry

DLPM047.ZIP (168 KB)
下载
光绘文件

DLP650LNIR Board Design

DLPC114.ZIP (4138 KB)
下载
封装 引脚 下载
CLGA (FYL) 149 了解详情

订购与质量

包含信息：
  • RoHS
  • REACH
  • 器件标识
  • 引脚镀层/焊球材料
  • MSL 等级/回流焊峰值温度
  • MTBF/FIT 估算
  • 材料成分
  • 认证摘要
  • 持续可靠性监测

支持与培训

视频