DLPLCR95EVM

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概述

此 DLP 评估模块 (EVM) 包含 DLP9500,后者是一个包含超过 200 万个彼此间距为 10.8µm 的微镜的 0.95 1080p 2xLVDS Type-A DMD。在搭配 DLPLCRC410EVM 使用时,用户可以获得像素精确控制及高达 23,148Hz 的 1 位图形速率。对于需要高分辨率和快速图形速率的设计人员而言,DLPLCR95EVM 是理想的评估选择。

特性
  • 目标为 400nm 至 700nm,1 位图形速率高达 23,148Hz
  • DLP9500 DMD 具有 1920x1080 个透镜,且它们之间的间距为 10.8µm
  • 带孔的 DMD 板,便于安装
  • 两条 12 英寸柔性电缆,用于在台座上灵活定位 DMD

  • DLPLCR95EVM DMD 板装配
  • 柔性电缆 (2)

DLP 控制器和驱动器
DLPA200 — 适用于 DLP® 数字微镜器件 (DMD) 的驱动器 DLPC410 — 适用于 DLP650LNIR、DLP7000 和 DLP9500 数字微镜器件 (DMD) 的 DLP® 控制器

 

可见光(420nm 至 700nm)DMD
DLP9500 — 0.95 英寸 1080p DLP® 数字微镜器件 (DMD)
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开始使用

  1. 订购 DMD EVM DLPLCR95EVM、控制器 EVM DLPLCRC410EVM 及适用电源
  2. 阅读 DLP Discovery 4100 用户指南
  3. 下载 DLPC133 GUI 和 DLPC134 软件
  4. 下载 DMD EVM DLPLCR95EVM-DF 和控制器 EVM DLPLCRC410EVM-DF 设计文件

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DLPLCR95EVM — DLP9500 DMD 评估板

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为什么必需? This evaluation module houses the DLP9500 device to provide high resolution and fast pattern rates.
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DLPLCR95EVM — DLP9500 DMD 评估板

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DLPLCRC410EVM — DLPLCRC410 评估模块

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为什么必需? The DLPLCRC410EVM pairs with the DLPLCR95EVM to help you achieve pixel accurate control with 1-bit pattern rates up to 23,148 Hz.
支持的产品和硬件

支持的产品和硬件

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DLPLCR65NEVM — DLP650LNIR DMD 评估模块 DLPLCR70EVM — DLP7000 DMD 评估板 DLPLCR70UVEVM — DLP7000UV DMD 评估板 DLPLCR95EVM — DLP9500 DMD 评估板 DLPLCR95UVEVM — DLP9500UV DMD 评估板
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DLPLCRC410EVM — DLPLCRC410 评估模块

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其他文档

DLPLC-EVM-POWER-SUPPLIES-5V — 外部电源,用于 DLPLCR65NEVM、DLPLCR70EVM、DLPLCR70UVEVM、DLPLCR95EVM、DLPLCRC410EVM

Required
为什么必需? This is the recommended 5V external power supply for the DLPLCR95EVM evaluation bundle to power the DLPLCRC410EVM.
支持的产品和硬件

DLPLC-EVM-POWER-SUPPLIES-5V — 外部电源,用于 DLPLCR65NEVM、DLPLCR70EVM、DLPLCR70UVEVM、DLPLCR95EVM、DLPLCRC410EVM

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* EVM 用户指南 DLP® Discovery™ 4100 开发平台 PDF | HTML PDF | HTML 2026-8-13
应用手册 使用低至 400nm 的 TI DLP® 技术时的系统设计注意事项 (Rev. A) PDF | HTML 英语版 (Rev.A) PDF | HTML 2025-9-16
应用手册 Wavelength Transmittance Considerations for DLP DMD Windows (Rev. E) 2019-12-17
证书 DLPLCR95EVM EU Declaration of Conformity (DoC) 2019-1-15
应用手册 DMD 101: Introduction to Digital Micromirror Device (DMD) Technology (Rev. B) 2018-2-23

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