ZHCAFX6 October 2025 HDC3020
进行烘烤是为了去除影响 RH 精度的水分或化学残留物。这种做法是有效的,因为在较高的温度下,化学污染物释放气体的速度会增加,这意味着化学污染物的去除过程得以加速。可以使用集成式加热器在芯片上完成烘烤(请参阅节 4.7.3了解如何使用集成式加热器),也可以在外部的受控烘箱中进行。
首先将传感器在 100°C 和 <5%RH 的条件下烘烤 5 至 10 小时,然后重新评估 RH 精度。按照 TI 的 RH 传感器数据表中的建议,烘烤持续时间可长达 10 小时。烘烤后,根据数据表中的建议重新水合 RH 传感器,以帮助恢复或减少因化学品暴露而导致的精度漂移。如果在烘烤和再水合后未获得充分的 RH 精度改善,则执行额外的烘烤有助于排出更多化学污染物。烘烤过程必须在没有他化学污染源的情况下进行,因为高温可能会加速进一步污染的影响。在有些(但并非所有)存在化学污染的情况下,烘烤可以减少由污染引起的 RH 变化。