ZHCSC71F March 2014 – July 2025 TPS25200
PRODUCTION DATA
内部 N 沟道 MOSFET 的低导通电阻允许大电流通过小型表面贴装封装。估算功率耗散和结温是一种良好的设计实践。在以下分析中,根据封装中的功率耗散计算结温的近似值。但是,需要注意的是,热分析在很大程度上取决于其他系统级因素。此类因素包括气流、电路板布局布线、覆铜厚度和表面积,以及与其他功率耗散器件的接近程度。良好的热设计实践除了涉及单个元件分析外,还必须考虑所有系统级因素。从确定与输入电压和运行温度相关的 N 通道 MOSFET 的 rDS(on)开始。开始估算时,使用感兴趣的最高运行环境温度并从典型特征图中读取 rDS(导通)值。当 VIN 低于 V(OVC) 时,TPS2500 是一种传统的电源开关。使用该值,功率耗散可以用 方程式 8 来计算。
当 VIN 超过 V(OVC) 但低于 V(OVLO) 时,TPS25200 将输出钳位到固定的 V(OVC),功率耗散可使用 方程式 9 来计算。
其中
此步骤用来计算 N 沟道 MOSFET 的总功率耗散。
最后,使用 方程式 10 计算结温。
其中
将计算得出的结温与初始估算值进行对比。如果它们间的差异较大,使用之前计算中得到的“精确” rDS(导通)作为全新的估算值进行重复计算。通常,二次或三次迭代就足以达到所需结果。最终的结温在很大程度上取决于热阻 θJA,而热阻在很大程度上取决于独立封装和电路板布局布线。