ZHCAEL4 October 2024 AM263P2-Q1 , AM263P4 , AM263P4-Q1
从目前来看,由于闪存编程和擦除需要高压电路,在同一裸片上嵌入闪存的传统 MCU(如图 1-1 所示)无法超越 22nm 技术节点。基于闪存的工艺也成本高昂,因为使用深亚微米级数字 CMOS 技术在 MCU/SOC 裸片上集成嵌入式闪存需要大量掩模。因此,这些 MCU 只适用于较旧的工艺节点(例如 28nm、40nm、65nm……)。
此外,还出现了其他新的 NVM 技术,如 MRAM、RRAM 等,但即使是这些技术也还不能满足汽车等高可靠性应用的需要。

高性能 MCU(如高性能 MCU 所示)使用外部闪存存储器器件,通常会在启动期间将整个映像下载到 SRAM。根据目标应用的处理性能需求和功耗需求,这些 MCU 适用于未搭载闪存技术的工艺节点(例如,低至 3nm/5nm 的较新工艺节点或 45nm 等定制节点)。此外,由于只采用闪存的工艺节点,使用单独闪存器件的成本会更低。这些 MCU 的最常见缺点是 SRAM 大小较大(不低于应用软件映像大小)和引导/启动时间较长,因此成本也较高。
