ZHCSZA7 December 2025 MCT8376Z-Q1
PRODUCTION DATA
可调栅极驱动电流控制主动管理半桥中的 MOSFET,以实现压摆率控制。MOSFET VDS 压摆率对优化辐射发射、二极管恢复尖峰的能量和持续时间以及寄生引起的开关电压瞬态有着关键影响。内部 MOSFET 的栅极电荷的速率主要决定这些压摆率,如图 7-12 所示。
图 7-12 压摆率电路实现在硬件器件型号中,每个半桥的压摆率可以通过 GAIN_SLEW_TLOCK 引脚(如表 7-6 所述)进行调整,在 SPI 器件型号中则使用 SLEW 位进行调整。在 SPI 器件中,每个半桥可以选择为 1.1V/ns、0.5V/ns、0.25V/ns 或 0.05V/ns 的压摆率设置。在硬件器件中,每个半桥都可以选择为 1.1V/ns 或 0.25V/ns 的压摆率设置。压摆率根据 OUTx 引脚电压的上升时间和下降时间计算得出,如图 7-13 所示。
图 7-13 压摆率时序