1 简介

超紫色 [UV] 和可见光波长之间的分界线通常被认为是 400nm。波长和光子能量之间的关系由 E = (hc/λ) 给出，其中 h 是平面常数、c 是光速、λ 是光的波长。

该方程表明，光子能量仅取决于波长的倒数，因为分子中的两个数字都是常数。波长越小，每个光子携带的能量就越高。因此，深蓝色光的波长更接近 400nm 这一界限，其每个光子所携带的能量比可见光谱中其他区域的光更多。

得益于更高光子能量的应用实例包括直接成像光刻技术和某些类型的 3D 打印。前者通常使用光敏乳胶（称为光刻胶），后者使用光敏树脂。通常，光刻胶和树脂材料对较高光子能量具有更强的反应能力，因此可以提高固化速率。

在 DMD 额定工作频率低至 400nm 的数字微镜器件 [DMD] 中实现了出色的设计技术。示例包括 DLP7000BFLP、DLP9500BFLN、DLP6500BFLQ、DLP9000BFLS 和 DLP9000XBFLS。特别是 405nm 的光可以与这种类型的 DMD 一起使用。此波长的发光二极管 [LED] 和激光二极管现在能够以合理的价格购得，因此在使用 405nm 优化材料的系统中很有吸引力。

TI DLP® DMD 使用在两种物理状态之间切换的反射微镜来调制光。由于 DMD 的主要调制控制通过铝微镜进行反射，因此与使用有机分子进行调制控制的其他空间光调制器 [SLM] 技术相比，这些器件对更短波长（能量更高的光子）的耐受性要高得多，因为此类分子在暴露于这些较短波长的光下时往往会退化。^{Ref 1,2}

然而，对于光刻和 3D 打印系统而言，较短波长的更高能量光子是理想选择，因此在与 DMD 结合使用时，需要更加关注设计注意事项，本应用手册探讨了重要的设计注意事项。