ZHCAEP9B July   2015  – November 2024 DLP7000UV , DLP9000XUV , DLP9500UV

 

  1.   1
  2.   使用用于 UVA 区域的 TI DLP® 技术进行系统设计的注意事项
  3.   商标
  4. 1引言
  5. 2热
  6. 3占空比
  7. 4光学
  8. 5高倍率缩小系统
    1. 5.1 非相干源（灯和 LED）
    2. 5.2 相干源（激光）
  9. 6结语
  10. 7参考资料
  11. 8修订历史记录

摘要

直接成像光刻和 3D 打印等先进技术通常使用针对电磁谱的紫外线区域进行优化的光敏材料。本应用报告探讨了使用设计用于在紫外光谱的 UVA 区域中运行的 TI DLP® UV 数字微镜器件 (DMD) 时的热、占空比、一般光学、一致性和高缩小倍数等设计注意事项。