1 引言

紫外光谱的 UVA 区域覆盖介于 315nm 至 400nm 之间的波长。UV DMD 专门设计用于在 UVA 区域的较高部分运行。（有关特定工作波长限制，请参阅每个特定的 DMD 数据表。）波长和光子能量之间的关系由方程式 1 给出。其中：

• h 是普朗克常数
• c 是光速
• λ 是光的波长

由于方程式 1 的分子中的两个值都是常数，这表明光子能量仅取决于波长的倒数。波长越小，每个光子携带的能量就越高。因此，UVA 范围内的光（波长短于可见光区域的波长）每个光子携带的能量要多于可见光谱中的光。

除了每个光子中有更多的能量外，对于光敏材料而言，较短的波长光线也支持较小的特征成像，因为受衍射限制的光斑大小与波长和 ƒ 数成正比。受益于较小光斑大小和每光子更高能量的应用示例包括直接成像光刻和各种类型的 3D 打印。前者通常使用光敏乳胶（称为光刻胶），后者使用光敏树脂。这些光刻胶和树脂材料对 UVA 光谱中较高光子能量的反应更敏感，可以提高固化速率，而较小的光斑则可以实现更清晰的细节。

用于 UVA 光谱的 UV DMD（例如 DLP7000UV、DLP9500UV 和 DLP9000XUV）采用了卓越的设计技术以及 UV 优化型窗口抗反射 (AR) 涂层。这些 DMD 搭配针对该频带中的波长进行优化的常用光刻胶和树脂以及在该光谱范围内现成可用的发光二极管 (LED) 和激光二极管，形成了出色的元件组合，便于制造针对 UVA 进行优化的系统。

TI DLP DMD 使用在两种物理状态之间切换的反射微镜来调制光。由于 DMD 的主要调制控制通过无机铝微镜的反射进行，因此与使用有机分子进行调制控制的空间光调制器 (SLM) 技术相比，这些器件对更短的波长具有更强的耐受性。有机分子在暴露于这些较短波长的光下时容易降解。^{Ref 1,2}

本应用手册探讨了充分提高使用 DMD 的系统在较短波长 UVA 下的性能的设计注意事项。