ZHCT316F August   2025  – August 2025 DLP7000 , DLP7000UV , DLP9000 , DLP9000X , DLP9000XUV , DLP9500 , DLP9500UV

 

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  3. 1使用 DLP 技术进行光刻的优势何在？
  4. 2适用于光刻的 DLP 设计
  5. 3示例应用
  6. 4评估模块
  7. 5系统方框图
  8. 6适用于工业 3D 打印和数字光刻的高速 DLP 子系统
  9.   商标

6 适用于工业 3D 打印和数字光刻的高速 DLP 子系统

为了帮助客户加快产品上市，德州仪器 (TI) 还提供了适用于 数字光刻的 TI Design。TI Design 是一种全面的电子参考设计，其中包括原理图、方框图、布局文件、物料清单和测试报告。因此，通过集成分辨率超高的 DLP 数字微镜器件 DLP9000X（微镜数超过 400 万）和超快的数字控制器 DLPC910，可提供具有超高吞吐量的系统级 DLP 开发板。要开始体验，请访问 ti.com/tool/TIDA-00570。

示例系统架构图 2 示例系统架构
表 1 表：TI DLP 与其他光刻技术的比较
特性 TI DLP® 无掩模数字技术 激光扫描 掩模对准器
图案更改时间 即时（数字加载） 慢速/手动 小时/天（新掩模）
曝光速度 非常快（整个区域） 较慢（仅限单点） 中等（整个掩模，固定）
分辨率/特征大小 微米级，灵活可调 低 低
设计变更成本 可忽略 很高 高（需要新掩模）
材料支持 UV/Vis，适用范围广泛 良好 良好
表 2 表：适用于无掩模光刻的 TI DLP 芯片组
产品或器件型号 子类别 显示分辨率（最大值） 阵列对角线（英寸） 工作温度范围 (°C) 控制器 EVM
DLP9000XUV UV WQXGA (2560x1600) 0.9 20 至 30 DLPC910 DLPLCR90XUVEVM
DLP650LNIR NIR WXGA (1280x800) 0.65 0 至 70 DLPC410 DLPLCR65NEVM
DLP9000X 近紫外 WQXGA (2560x1600) 0.9 0 至 70 DLPC910 DLPLCR90XEVM
DLP9000 近紫外 WQXGA (2560x1600) 0.9 0 至 70 DLPC900 DLPLCRC900DEVM
DLP6500FLQ 近紫外 1080p (1920x1080) 0.65 0 至 65 DLPC900 DLPLCR65FLQEVM
DLP9500 近紫外 1080p (1920x1080) 0.95 20 至 70 DLPC410 DLPLCR95EVM
DLP7000 近紫外 XGA (1024x768) 0.7 10 至 65 DLPC410 DLPLCR70EVM
DLP7000UV UV XGA (1024x768) 0.7 20 至 30 DLPC410 DLPLCR70UVEVM
DLP9500UV UV 1080p (1920x1080) 0.95 20 至 30 DLPC410 DLPLCR95UVEVM
DLP991U 近紫外 4K (2176 x 4096) 0.99 *-40 至 90 DLPC964 DLPLCR99EVM
DLP991UUV UV 4K (2176 x 4096) 0.99 *-40 至 90 DLPC964 DLPLCR99UVEVM