ZHCT314F January 2015 – August 2025 DLP4500 , DLP7000 , DLP7000UV , DLP9000 , DLP9000X , DLP9000XUV , DLP9500 , DLP9500UV , DLPC350 , DLPC410 , DLPC900 , DLPC910
在 DLP 3D 打印设计中,物体由使用在 PC 上运行的软件生成的 3D CAD 模型指定,然后转换为图像切片工具生成的 2D 横截面层。能否选择理想的 DLP 芯片组取决于所需的物体特征尺寸、分辨率、打印速度和曝光波长。系统控制和信号处理由 TI MSP430™ 等嵌入式处理器完成。电源由 TI 功率器件提供。
图 1 示例系统架构为了帮助客户加快产品上市速度,德州仪器 (TI) 还提供了适用于 3D 打印应用的 TI 设计。TI 设计是一种全面的参考设计,其中包括原理图、方框图、物料清单、设计文件、软件和测试报告。3D 打印机开发平台采用 DLP 3D 结构光软件开发套件,让开发人员能够构建高分辨率的 3D 物体。免费的 TI 设计采用 DLP LightCrafter 4500 EVM,展示了 DLP4500 DMD,可精确曝光物体层。该系统还采用了 TI 的低功耗 MSP430 嵌入式处理器,将层曝光与电机控制同步,以便实现精确的渐进式 3D 打印。要开始体验,请访问 ti.com/tool/TIDA-00293。
| 特性 | TI DLP® 结构光 | 逐点激光 SLA | LCD 屏蔽 (MSLA) |
| 曝光方法 | 全像素,单闪存 | 单点,扫描 | 面积按 LCD 像素计 |
| 打印速度 | 最高 | 更慢 | 高,但 UV 效率较低 |
| 分辨率/灵活性 | 自定义图案/微米 | 受激光点限制 | 受 LCD 面板限制 |
| 可维护性 | 无打印头/机构 | 镀锌/透镜磨损 | 效率随时间推移下降 |
| 典型用途 | 工业及原型设计 | 珠宝、牙科、原型设计 | 入门应用/原型设计 |
| 产品或器件型号 | 子类别 | 显示分辨率(最大值) | 工作温度范围 (°C) | 阵列对角线(英寸) | 控制器 | EVM |
|---|---|---|---|---|---|---|
| DLP301S | 近紫外 | WQHD (2560x1440) | 0 至 40 | 0.3 | DLPC1438 | |
| DLP670S | 可见光 | WQXGA (2716 x 1600) | 0 至 70 | 0.67 | DLPC900 | DLPLCR67EVM |
| DLP9000XUV | UV | WQXGA (2560x1600) | 20 至 30 | 0.9 | DLPC910 | DLPLCR90XUVEVM |
| DLP650LNIR | 红外线 | WXGA (1280x800) | 0 至 70 | 0.65 | DLPC410 | DLPLCR65NEVM |
| DLP9000X | 近紫外 | WQXGA (2560x1600) | 0 至 70 | 0.9 | DLPC910 | DLPLCR90XEVM |
| DLP6500FYE | 近紫外 | 1080p (1920x1080) | 0 至 90 | 0.65 | DLPC900 | DLPLCR65NEVM |
| DLP6500FLQ | 近紫外 | 1080p (1920x1080) | 0 至 65 | 0.65 | DLPC910 | DLPLCR65FLQEVM |
| DLP9000 | 近紫外 | WQXGA (2560x1600) | 0 至 70 | 0.9 | DLPC900 | DLPLCRC900DEVM |
| DLP9500 | 近紫外 | 1080p (1920x1080) | 20 至 70 | 0.95 | DLPC410 | DLPLCR95EVM |
| DLP7000 | 近紫外 | XGA (1024x768) | 10 至 65 | 0.7 | DLPC410 | DLPLCR70EVM |
| DLP7000UV | UV | XGA (1024x768) | 20 至 30 | 0.7 | DLPC410 | DLPLCR70UVEVM |
| DLP9500UV | UV | 1080p (1920x1080) | 20 至 30 | 0.95 | DLPC410 | DLPLCR95UVEVM |