ZHCUAW7D October 2016 – August 2026
DLPLCRC410 评估模块 (EVM) 是一个评估平台,可与另外五个基于 DMD 的 EVM 之一配对使用,用于展示适用于光刻、3D 打印(SLS 和 SLA)、机器视觉、打标和编码等应用的先进光控制。此 EVM 可用于评估新的客户光源、光学元件、算法和曝光过程,从而加快潜在的 DLP 技术评估过程,缩短客户学习周期并加快产品上市。