ZHCSD19A September 2014 – October 2015 DLP9000
PRODUCTION DATA.
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要使 DMD 达到最佳性能,需要对 DMD 外壳的最高温度、有源阵列中任一微镜的最高温度以及封装上任意两点间的温度梯度和封装内的温度梯度进行适当管理。
关于适用的温度限值,请参见Absolute Maximum Ratings和Recommended Operating Conditions。
DMD 经设计可将吸收和消散的热量传递回 FLS 系列封装,然后通过适当的热管理系统排出。该热管理系统必须能够将封装维持在热测试点位置上指定的工作温度范围内(请参见Figure 15 或Micromirror Array Temperature Calculation)。DMD 上的总体热负载通常由有源区域吸收的入射光驱动,不过可能还会有一部分来自窗口孔隙吸收的光能、阵列的电气功耗以及寄生发热。有关热阻的信息,请参见Thermal Information。
可以直接测量 DMD 外壳的温度。为确保测量结果的一致性,定义了一个热测试点位置,如Figure 15 和Micromirror Array Temperature Calculation所示。