紫外产品 (< 400nm)

针对使用紫外线波长的 3D 打印和数字直接曝光进行了优化,可获得高精度、高光功率和高速工业性能

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DLP 3D 打印和直接成像产品采用专门设计的紫外器件,具有精确的像素控制、灵活的数据加载和较快的速度,是高速、高精度数字曝光应用的理想选择。这些产品支持 400nm 内的各类应用,包括树脂 SLA 3D 打印应用和数字曝光应用(例如用于 PCB、先进封装、FPD 和半导体晶圆的激光直接成像 (LDI))。此外,提供第三方支持,以便您立即着手进行设计。

设计和开发资源

光学模块
DLP® 产品第三方搜索工具

为了充分满足您的设计需求并缩短产品上市时间,DLP® 产品与各种第三方合作,从光学模块和硬件设计到专用软件和其他生产服务全方位为您提供帮助。在下方所列两款搜索工具中择一下载或两款全部下载,快速浏览我们的第三方供应商,或寻找特定光学模块来满足您的需求。列表中产品、软件和服务的生产者和管理者为独立的第三方,而非德州仪器 (TI)。

第三方资源可以使用以下两款搜索工具检索:

  • DLP 产品第三方供应商搜索工具 (DLP-3P-SEARCH) 能够检索可以设计或制造光学元件、硬件、软件和辅助技术的服务供应商
  • DLP 产品光学模块搜索工具 (DLP-OMM-SEARCH) (...)
评估板
DLP7000UV DMD 评估板
此 DLP 评估模块 (EVM) 包含 DLP7000UV,后者是一个 0.7 UV XGA 2xLVDS Type A DMD,适用于使用 363nm 至 420nm 紫外线 (UV) 照明源的应用。
评估板
DLPLCRC410 评估模块
DLPLCRC410EVM 是一个评估平台,可与另外五个基于 DMD 的 EVM 配对使用,用以展示光刻、3D 打印(SLS 和 SLA)、机器视觉、打标和编码等应用的先进光控制。此 EVM 可评估新的客户照明源、光学、算法和曝光过程,从而加快潜在的 DLP 技术评估过程,缩短客户学习周期并提高产品上市速度。