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产品详细信息

参数

Chipset family DLPR410, DLP650LNIR, DLP7000, DLP9500, DLP7000UV, DLP9500UV, DLPC410, DLPA200 Component type PROM open-in-new 查找其它 高速可见光芯片组

封装|引脚|尺寸

DSBGA (YVA) 48 0 mm² 8 x 9 open-in-new 查找其它 高速可见光芯片组

特性

  • 预编程的 Xilinx®PROM 用于配置 DLPC410 DMD 数字控制器
  • 兼容 1.8V 到 3.3V 的 I/O 引脚
  • 1.8V 内核电源电压
  • 工作温度范围:-40°C 至 +85°C
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描述

DLPR410 器件是一款经编程的 PROM,用于正确配置 DLPC410 控制器,从而运行五个 DMD 选件:DLP650LNIR、DLP7000、DLP7000UV、DLP9500 和 DLP9500UV。此器件中的固件使 DLPC410 控制器能够提供高达 48 千兆位/秒 (Gbps)的系统数据吞吐量,并提供随机行寻址和 Load4 功能选项。通常,此系列芯片设计用于高速 UV 和 NIR 光学系统,例如需要快速吞吐量和像素精确控制的直接成像平版印刷系统、3D 打印和激光打标设备。 中添加了 DLPR4101“Load 4”增强功能

有关 DLPR410 的完整电气规格和机械规格,请参阅表 3 中列出的 XCF16P 产品规格。

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技术文档

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类型 标题 下载最新的英文版本 日期
* 数据表 DLPR410 配置 PROM 数据表 (Rev. E) 下载最新的英文版本 (Rev.G) 2019年 1月 24日
白皮书 High-power NIR laser system benefits with TI’s DLP® technology 2018年 12月 12日
技术文章 From 3D Printing to Lithography, TI DLP® Ultraviolet Chipsets Provide Flexible Solutions for UV Imaging 2015年 8月 27日
应用手册 DLP 系统光学 下载英文版本 2015年 1月 20日
应用手册 针对 DLP DMD 窗口的波长透射率考虑因素 (Rev. C) 下载最新的英文版本 (Rev.E) 2014年 12月 10日
应用手册 DMD 101: 数字微镜器件 (DMD) 技术介绍 (Rev. A) 下载最新的英文版本 (Rev.B) 2014年 9月 3日

设计与开发

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硬件开发

评估板 下载
document-generic 用户指南
2799
说明
此 DLP 评估模块 (EVM) 包含 DLP650LNIR,后者是一个 0.65 NIR WXGA 系列 450 DMD,适用于使用 850nm 至 2000nm 近红外 (NIR) 照明源的应用。DLPLCR65NEVM 是适用于激光烧结、烧蚀、打标、编码、打印和其他使用近红外光源的应用的高级成像选项。在搭配 DLPLCRC410EVM 使用时,用户可以获得像素精确控制及高达 12,500Hz 的 1 位图形速率。
特性
  • 目标为 850nm 至 2000nm,且可与多种近红外照明源(例如,激光、灯泡、LED)兼容
  • DLP650LNIR DMD 具有 1280 x 800 个透镜,且它们之间的间距为 10.8µm
  • DLP650LNIR DMD 具有高效散热型 S450 封装
  • 带孔的 DMD 板,便于安装
  • 12 英寸柔性电缆,用于在台座上灵活定位 DMD
评估板 下载
DLP7000 DMD 评估板
DLPLCR70EVM
document-generic 用户指南
1799
说明
此 DLP 评估模块 (EVM) 包含 DLP7000,后者是一个包含超过 1076 x 768 万个彼此间距为 13.6µm 的微镜的 0.7 XGA 2xLVDS Type A DMD。在搭配 DLPLCRC410EVM 使用时,用户可以获得像素精确控制及高达 32,225Hz 的 1 位图形速率。对于需要 DLP 产品组合中的最大像素间距和最快图形速率选项的设计人员而言,DLPLCR70EVM 是理想的评估选择。
特性
  • 目标为 400nm 至 700nm,1 位图形速率高达 32,225Hz
  • DLP7000 DMD 具有 1076x768 个透镜,且它们之间的间距为 13.6µm
  • 带孔的 DMD 板,便于安装
  • 12 英寸柔性电缆,用于在台座上灵活定位 DMD
评估板 下载
DLP9500 DMD 评估板
DLPLCR95EVM
document-generic 用户指南
3999
说明
此 DLP 评估模块 (EVM) 包含 DLP9500,后者是一个包含超过 200 万个彼此间距为 10.8µm 的微镜的 0.95 1080p 2xLVDS Type-A DMD。在搭配 DLPLCRC410EVM 使用时,用户可以获得像素精确控制及高达 23,148Hz 的 1 位图形速率。对于需要高分辨率和快速图形速率的设计人员而言,DLPLCR95EVM 是理想的评估选择。
特性
  • 目标为 400nm 至 700nm,1 位图形速率高达 23,148Hz
  • DLP9500 DMD 具有 1920x1080 个透镜,且它们之间的间距为 10.8µm
  • 带孔的 DMD 板,便于安装
  • 两条 12 英寸柔性电缆,用于在台座上灵活定位 DMD
评估板 下载
DLPLCRC410 评估模块
DLPLCRC410EVM
document-generic 用户指南
1999
说明
DLPLCRC410EVM 是一个评估平台,可与另外五个基于 DMD 的 EVM 配对使用,用以展示光刻、3D 打印(SLS 和 SLA)、机器视觉、打标和编码等应用的先进光控制。此 EVM 可评估新的客户照明源、光学、算法和曝光过程,从而加快潜在的 DLP 技术评估过程,缩短客户学习周期并提高产品上市速度。
特性
  • 5 个不同 DMD 之一的光控制
  • 二进制图形速率高达 32kHz
  • 灰度图形速率高达 1.9kHz
  • 400Mhz 时钟速率下的 2xLVDS DDR 输入数据接口
  • 支持对 DMD 行的随机行寻址
评估板 下载
Optecks DLP650LNIR DMD evaluation module
OPTECKS-3P-DLP650LNIR-EVM
说明

The Optecks DLP650LNIR evaluation module (EVM) includes DLP650LNIR DMD, a 0.65" NIR WXA Series 450 DMD designed to be used in applications that operate in 850-2000 nm near-infrared (NIR) spectrum. Optecks DLP650LNIR EVM is an advanced imaging solution for laser sintering, ablation, marking, coding (...)

特性
  • Includes 4 mounting holes for easy mounting and alignment when mounted with optical module
  • Targets 850-2000 nm and compatible with multiple NIR illumination sources such as lasers, lamps and LEDs
  • 12-inch flex cable for flexible positioning of the DMD on a benchtop
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document-generic 用户指南
说明
适用于 DLP® Discovery™ 芯片组(采用 DLP7000、DLP7000UV、DLP9500 或 DLP9500UV DMD 的 DLPC410)的 DLi 套件支持适用于工业和医疗系统及仪器的定制接口开发。根据所需的硬件和软件支持,在各种套件选项中进行选择。DLi4120 套件包括 (...)
特性
  • D4100 套件:与 DLP Discovery Explorer GUI 和 DLPC410 API 搭配使用
  • Light Animator 软件支持 DLi4120 和 DLi 4130 套件 - 创建、管理和操作图像序列
  • DLi4120 套件还支持:
    • ALP-4.1 基本 API – 上传、排序、控制图形和处理命令
    • 高达 300Hz 的二进制图形速率
  • DLi4130 套件还支持:
    • ALP-4.1 高速控制器套件:设置位深、触发器、帧速率、图形显示时间以及图形循环和 LED 参数
    • 高达 22.7kHz 的二进制/290Hz 的 8 位灰度图形速率
    • 4GB RAM 和 FPGA 电池增强了图形存储性能
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说明

ViALUX 的 Direct Link 传感器可提供适用于 DLP7000 的集成光学元件和电子器件设计。DLS 模块适用于需要高性能 DLP 投影和采集精确同步图像的 3D 机器视觉应用。DLS 模块可满足之前多个不同器件对图案投影仪和摄像机的需求,还可将 DLP 芯片和图像传感器集成于一个电子器件上。用户定义投影序列后,即可收到相应序列的返回图像。

DLS-1.0 API 支持具有不同位深度、图像数量和帧速率的各类图像序列。可使用额外的软件包 (zSn.dll) 实现高速、高精度 3D 坐标测量应用。这款强大的 3D 测量软件开发用于 ViALUX zSnapper® 3D 扫描仪,现可随附 DLS 模块发布。它自动提供经校准的 (x,y,z) 坐标,并直接用于 3D 机器视觉应用。

特性
  • 用于蓝色 (460nm)、NIR (850nm) 和白色光投影的高功率 LED 光源
  • 一至两个 1920x1200 像素的 CMOS 图像传感器
  • 帧速率范围为 166fps(全分辨率)至 5000fps(对于 ROI)
  • 一个连接至 PC 的 USB-3.2 Gen 1x1 (Type-A)
  • 可同步多个 DLS 模块
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说明
ViALUX 的 SuperSpeed V 模块提供完整的子系统,其中包含 DLPC410 的控制器板、数字微镜器件(DLP650LNIR、DLP7000、DLP7000UV、DLP9500、DLP9500UV 或 .96 WUXGA DMD)和 ALP-4 控制器套件软件。工业级模块开箱即可支持高性能像素级控制。这些 DLP® 子系统针对新兴应用而设计,提供功能丰富的编程接口,可推动新产品的快速上市。

请访问下方的订购链接,了解完整的产品选项。
特性
  • USB 3.0、无损压缩、低延迟
  • 用于存储图形的 64 或 128Gbit 板载 RAM
  • ALP-4 控制器套件:设置位深、触发器、帧速率、图形显示时间、图形循环和 LED 参数
  • V-650L NIR:10,752Hz 的二进制图形速率
  • V-7001 VIS/UV:22,727Hz 的二进制图形速率
  • V-9501 VIS/UV:17,857Hz 的二进制图形速率
  • V-9601 VIS:16,393Hz 的二进制图形速率
  • V-7000 VIS/UV:USB 2.0 选项和小尺寸电子装置
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说明
LUXBEAM 光刻系统 (LLS) 是一种用于直接成像光刻设备的子系统,包括用于全天候生产的全自动插件机。该系统提供了详细的接口文档和现场支持,可轻松实现硬件和软件集成。提供多种光电传感头选项,涵盖范围包括用于高级封装的 2、4 和 10µm 线宽/线间距,用于 PCB 光刻的 20µm 线宽/线间距,以及用于阻焊层的 30-40µm 焊坝。
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说明

The LUXBEAM® Rapid System LRS-HD is a DLP® technology based stereolithography sub-system, specifically designed for single head scrolling motion 3D printing and Additive Manufacturing systems. With the robust and reliable high resolution DLP9500 chip, the LRS-HD variants UV, Hybrid (HY), and (...)

特性
  • DLP9500 0.95” 1080p HD
  • Up to 7W
  • Single head scrolling system for 3D printing and additive manufacturing
  • 1920 x 1080, (UV/VIS)
  • 1920 x 1200, (VIS)
  • Air cooling (fan)
  • Complete API (Windows, Linux), platform independent web interface
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说明

LUXBEAM® Rapid System LRS-MCx 和 LRS-HD 光引擎性能相同,可为像素间距低至 50 微米的缝合图像提供模块堆叠功能,这有利于采用单程线性运动系统的 3D 打印更大限度地提高制造产量。其特殊对齐功能可使模块的像素精确对齐,此外,还可提供同等稳健可靠的高分辨率。

特性
  • DLP9500 0.95” 1080p HD
  • 高达 9W (405nm)、7W (385nm)、5W (365nm)
  • 适用于 3D 打印和增材制造 (AM) 的多线程滚动系统
  • 1920 x 1080,(UV/VIS)
  • 1920 x 1200,(VIS)
  • 液体冷却(水)
  • 完整的 API(Windows、Linux),独立于平台的网络接口
  • 实现高级控制的软件包(可选)
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说明
The LUXBEAM RAPID SYSTEM LRS-UV/HY/VIS is a 3D printer subsystem with flexible build area and high throughput, high resolution manufacturing. It enables smart functions such as sub-pixelation (SPX) for resolution enhancement, and pixel power control (PPC) to equalize energy per pixel.  It also (...)
特性
  • Optimized for 3D printing
  • Scalable build area with scrolling
  • Gigabit Ethernet protocol
  • Multiple LED options available
  • Multiple lens options available
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说明
LUXBEAM 4600 可服务于需要高分辨率、高帧率和单像素控制的高速工业应用。它包括与柔性电缆连接的 DMD 板和用于存储器管理、排序和 I/O 信令的 VISITECH LUXWARE 固件。该板还具有即时可用的 Web 服务器,该服务器支持与 VISITECH 的高级 LED 驱动器进行通信。千兆以太网接口为主机系统提供快速数据传输功能。通过联系 VISITECH,可获得图像滚动、用于自动对焦的运动控制环路和热量管理等可用固件选项。

如需了解有关 VISITECH 的更多信息,请访问 https://visitech.no/
评估板 下载
Wintech W4100 高速开发套件
由 Wintech Digital Systems Technology 提供
说明
Wintech W4100 开发套件为用户提供了一个德州仪器 (TI) DLP® Discovery™ 4100 开发平台的替代方案。它采用相同的 FPGA 平台和相同的数据接口,帧速率高达 32,552Hz,并具有灰度级操作。W4100 与 DLP7000、DLP7000UV、DLP9500 和 DLP9500UV DMD 兼容
光学模块 下载
说明

SPARK NIR 远心光学引擎设计用于宽高比为 16:9 的 0.65 英寸数字微镜器件(例如 DLP650LNIR)。所有光学元件均具有频谱范围为 600 - 1050nm 的高质量、防反射 (AR) 涂层。SPARK 光学引擎具备投影透镜可互换的功能,可以适配任何市售的 F 卡口摄像机镜头。SPARK 光学引擎包含强力均质器,用于激光应用时,可提高均匀性。

特性
  • 可互换的 F 卡口投影透镜
  • 近红外 (NIR) 波长范围在 600-1050nm 之间
  • 与 Optecks DLP650LNIR EVM 兼容
  • 用于激光应用的强力均质器
  • 可安装 LED、光纤或光导纤维电缆
  • 高功率灯或激光
光学模块 下载
说明
ViALUX 的 STAR-07 CORE 提供针对 DLP7000 设计的紧凑型光学器件。它可作为附件或完全集成的工业图形投影单元,具备高功率 LED 光源和单光或 RGB 选项。STAR-07 具有两种透镜选项 - 具有缩放功能的标准投影透镜和具有固定焦距的广角透镜。

请访问下方的订购链接,了解完整的产品选项。
特性
  • LED 驱动器配备的高功率 LED 光源引擎支持
  • 兼容 ViALUX ALP 控制器套件软件
  • 标准透镜:1.8 - 2.1 投射比;0.4 米 - 10.0 米工作距离
  • 广角镜头:0.9 投射比;0.5 米 - 2.0 米工作距离
  • 偏移 125%

CAD/CAE 符号

封装 引脚 下载
DSBGA (YVA) 48 了解详情

订购与质量

包含信息:
  • RoHS
  • REACH
  • 器件标识
  • 引脚镀层/焊球材料
  • MSL 等级/回流焊峰值温度
  • MTBF/FIT 估算
  • 材料成分
  • 认证摘要
  • 持续可靠性监测

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