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设计和开发

DLPLCR65NEVM

DLP650LNIR DMD 评估模块

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概述

此 DLP 评估模块 (EVM) 包含 DLP650LNIR，后者是一个 0.65 NIR WXGA 系列 450 DMD，适用于使用 850nm 至 2000nm 近红外 (NIR) 照明源的应用。DLPLCR65NEVM 是适用于激光烧结、烧蚀、打标、编码、打印和其他使用近红外光源的应用的高级成像选项。在搭配 DLPLCRC410EVM 使用时，用户可以获得像素精确控制及高达 12,500Hz 的 1 位图形速率。

特性
  • 目标为 850nm 至 2000nm，且可与多种近红外照明源（例如，激光、灯泡、LED）兼容
  • DLP650LNIR DMD 具有 1280 x 800 个透镜，且它们之间的间距为 10.8µm
  • DLP650LNIR DMD 具有高效散热型 S450 封装
  • 带孔的 DMD 板，便于安装
  • 12 英寸柔性电缆，用于在台座上灵活定位 DMD

  • DLP650LNIR DMD Board Assy
  • Flex cable
近紫外线产品 (400 至 420 nm)
DLPA200 — 适用于 DMD 的 DLP® 驱动器 DLPC410 — 用于 DLP650LNIR、DLP7000/7000UV 和 DLP9500/DLP9500UV 数字微镜器件的数字控制器

 

近红外产品 (> 700nm)
DLP650LNIR — DLP 0.65 NIR WXGA S450 DMD
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类型 标题 下载最新的英文版本 日期
EVM 用户指南 DLP® Discovery™ 4100 开发平台 (Rev. B) PDF | HTML 英语版 (Rev.B) PDF | HTML 2023年 4月 18日
应用手册 Wavelength Transmittance Considerations for DLP DMD Windows (Rev. E) 2019年 12月 17日
证书 DLPLCR65NEVM EU Declaration of Conformity (DoC) 2019年 1月 2日
白皮书 High-power NIR laser system benefits with TI’s DLP® technology 2018年 12月 12日
应用手册 DLP High Power NIR Thermal Design Guide 2018年 10月 1日
应用手册 DMD 101: Introduction to Digital Micromirror Device (DMD) Technology (Rev. B) 2018年 2月 23日
应用手册 针对 DLP DMD 窗口的波长透射率考虑因素 (Rev. C) 最新英语版本 (Rev.E) 2014年 12月 10日
应用手册 DMD 101: 数字微镜器件 (DMD) 技术介绍 (Rev. A) 最新英语版本 (Rev.B) 2014年 9月 3日

相关设计资源

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评估板
DLPLCR70EVM — DLP7000 DMD 评估板 DLPLCR70UVEVM — DLP7000UV DMD 评估板 DLPLCR95EVM — DLP9500 DMD 评估板 DLPLCR95UVEVM — DLP9500UV DMD 评估板 DLPLCRC410EVM — DLPLCRC410 评估模块

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