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Chipset family DLP5500, DLP550JE, DLP650LNIR, DLP7000, DLP7000UV, DLP9500, DLP9500UV, DLPA200, DLPC410, DLPR410 Component type Micromirror Driver Rating Catalog Operating temperature range (°C) 0 to 75 Thermal dissipation (°C/W) 3
Chipset family DLP5500, DLP550JE, DLP650LNIR, DLP7000, DLP7000UV, DLP9500, DLP9500UV, DLPA200, DLPC410, DLPR410 Component type Micromirror Driver Rating Catalog Operating temperature range (°C) 0 to 75 Thermal dissipation (°C/W) 3
HTQFP (PFP) 80 196 mm² 14 x 14
  • 生成 DLP 数字微镜器件 (DMD) 所需的微镜时钟脉冲
  • 生成所需的特殊电压电平以生成微镜时钟脉冲
  • 设计用于多种 DLP 芯片组
  • 生成 DLP 数字微镜器件 (DMD) 所需的微镜时钟脉冲
  • 生成所需的特殊电压电平以生成微镜时钟脉冲
  • 设计用于多种 DLP 芯片组

DLPA200 是一款 DLP数字微镜器件 (DMD) 驱动器,能够生成 DLP 产品系列中某些 DMD 所需的微镜时钟脉冲。一套完整的 DLP 芯片组能够使开发人员更加轻松地访问 并使用高速微镜控制。

DLPA200 是一款 DLP数字微镜器件 (DMD) 驱动器,能够生成 DLP 产品系列中某些 DMD 所需的微镜时钟脉冲。一套完整的 DLP 芯片组能够使开发人员更加轻松地访问 并使用高速微镜控制。

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应用手册 Using DLP® Development Kits for 3D Optical Metrology Systems 2011年 5月 13日

设计和开发

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评估板

DLPLCR65NEVM — DLP650LNIR DMD 评估模块

此 DLP 评估模块 (EVM) 包含 DLP650LNIR,后者是一个 0.65 NIR WXGA 系列 450 DMD,适用于使用 850nm 至 2000nm 近红外 (NIR) 照明源的应用。DLPLCR65NEVM 是适用于激光烧结、烧蚀、打标、编码、打印和其他使用近红外光源的应用的高级成像选项。在搭配 DLPLCRC410EVM 使用时,用户可以获得像素精确控制及高达 12,500Hz 的 1 位图形速率。
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评估板

DLPLCR70EVM — DLP7000 DMD 评估板

此 DLP 评估模块 (EVM) 包含 DLP7000,后者是一个包含超过 1076 x 768 万个彼此间距为 13.6µm 的微镜的 0.7 XGA 2xLVDS Type A DMD。在搭配 DLPLCRC410EVM 使用时,用户可以获得像素精确控制及高达 32,225Hz 的 1 位图形速率。对于需要 DLP 产品组合中的最大像素间距和最快图形速率选项的设计人员而言,DLPLCR70EVM 是理想的评估选择。
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评估板

DLPLCR95EVM — DLP9500 DMD 评估板

此 DLP 评估模块 (EVM) 包含 DLP9500,后者是一个包含超过 200 万个彼此间距为 10.8µm 的微镜的 0.95 1080p 2xLVDS Type-A DMD。在搭配 DLPLCRC410EVM 使用时,用户可以获得像素精确控制及高达 23,148Hz 的 1 位图形速率。对于需要高分辨率和快速图形速率的设计人员而言,DLPLCR95EVM 是理想的评估选择。
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评估板

DLPLCRC410EVM — DLPLCRC410 评估模块

DLPLCRC410EVM 是一个评估平台,可与另外五个基于 DMD 的 EVM 配对使用,用以展示光刻、3D 打印(SLS 和 SLA)、机器视觉、打标和编码等应用的先进光控制。此 EVM 可评估新的客户照明源、光学、算法和曝光过程,从而加快潜在的 DLP 技术评估过程,缩短客户学习周期并提高产品上市速度。
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评估板

OPTECKS-3P-DLP650LNIR-EVM — Optecks DLP650LNIR DMD 评估模块

The Optecks DLP650LNIR evaluation module (EVM) includes DLP650LNIR DMD, a 0.65" NIR WXA Series 450 DMD designed to be used in applications that operate in 850-2000 nm near-infrared (NIR) spectrum. Optecks DLP650LNIR EVM is an advanced imaging solution for laser sintering, ablation, marking, coding, (...)

评估板

DLI-3P-DLI41XX — 适用于 DLP Discovery 芯片组的 DLi D4100、D4120、D4130 开发套件

适用于 DLP® Discovery™ 芯片组(采用 DLP7000、DLP7000UV、DLP9500 或 DLP9500UV DMD 的 DLPC410)的 DLi 套件支持适用于工业和医疗系统及仪器的定制接口开发。根据所需的硬件和软件支持,在各种套件选项中进行选择。DLi4120 套件包括 Optecks Light Animator™ 软件和 ViALUX ALP-4.1 基本 API。DLi4130 套件包括 Light Animator™ 软件、ALP-4.1 高速控制器套件、升级款板载 RAM 和 FPGA 电池。
 
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评估板

VISI-3P-LRS-HD-UV — Visitech LUXBEAM Rapid System HD UV

The LUXBEAM® Rapid System LRS-HD is a DLP® technology based stereolithography sub-system, specifically designed for single head scrolling motion 3D printing and Additive Manufacturing systems. With the robust and reliable high resolution DLP9500 chip, the LRS-HD variants UV, Hybrid (HY), (...)

来源:VISITECH
评估板

VISI-3P-LRS-MCX-HD-UV — Visitech LUXBEAM Rapid System MCx HD UV

LUXBEAM® Rapid System LRS-MCx 和 LRS-HD 光引擎性能相同,可为像素间距低至 50 微米的缝合图像提供模块堆叠功能,这有利于采用单程线性运动系统的 3D 打印更大限度地提高制造产量。其特殊对齐功能可使模块的像素精确对齐,此外,还可提供同等稳健可靠的高分辨率。

来源:VISITECH
评估板

VISI-3P-LRS-MCX-WX-NIR — Visitech LUXBEAM Rapid System NIR

VISITECH 即将推出的 LRS-MCx-WX 光引擎提供了一种新的基于聚合物的粉末床熔融方法,可在投射的 2D 图像中提供超过 100W 的出色近红外功率。作为选择性激光烧结 (SLS) 传统技术的替代方案,新方法可提高粉末床熔融过程中各系统的生产效率,实现按顺序逐点、逐层对高分子材料加热。

来源:VISITECH
评估板

WDST-3P-W4100 — Wintech W4100 高速开发套件

Wintech W4100 开发套件为用户提供了一个德州仪器 (TI) DLP® Discovery™ 4100 开发平台的替代方案。它采用相同的 FPGA 平台和相同的数据接口,帧速率高达 32,552Hz,并具有灰度级操作。W4100 与 DLP7000、DLP7000UV、DLP9500 和 DLP9500UV DMD 兼容
光学模块

DLP-OMM-SEARCH — DLP® 产品第三方搜索工具

为了充分满足您的设计需求并缩短产品上市时间,DLP® 产品与各种第三方合作,从光学模块和硬件设计到专用软件和其他生产服务全方位为您提供帮助。在下方所列两款搜索工具中择一下载或两款全部下载,快速浏览我们的第三方供应商,或寻找特定光学模块来满足您的需求。列表中产品、软件和服务的生产者和管理者为独立的第三方,而非德州仪器 (TI)。

第三方资源可以使用以下两款搜索工具检索:

  • DLP 产品第三方供应商搜索工具 (DLP-3P-SEARCH) 能够检索可以设计或制造光学元件、硬件、软件和辅助技术的服务供应商
  • DLP 产品光学模块搜索工具 (DLP-OMM-SEARCH) (...)
光学模块

OPTECKS-3P-SPARKNIR — Optecks DLP650LNIR DMD evaluation module

SPARK NIR 远心光学引擎设计用于宽高比为 16:9 的 0.65 英寸数字微镜器件(例如 DLP650LNIR)。所有光学元件均具有频谱范围为 600 - 1050nm 的高质量、防反射 (AR) 涂层。SPARK 光学引擎具备投影透镜可互换的功能,可以适配任何市售的 F 卡口摄像机镜头。SPARK 光学引擎包含强力均质器,用于激光应用时,可提高均匀性。

来源:Optecks, LLC
光学模块

VISI-3P-LITHOGRAPHY — VISITECH LUXBEAM 平版印刷系统

LUXBEAM 光刻系统 (LLS) 是一种用于直接成像光刻设备的子系统,包括用于全天候生产的全自动插件机。该系统提供了详细的接口文档和现场支持,可轻松实现硬件和软件集成。提供多种光电传感头选项,涵盖范围包括用于高级封装的 2、4 和 10µm 线宽/线间距,用于 PCB 光刻的 20µm 线宽/线间距,以及用于阻焊层的 30-40µm 焊坝。
来源:VISITECH
光学模块

VISI-3P-LUXBEAM-RAPID — VISITECH LUXBEAM® RAPID SYSTEM LRS

The LUXBEAM RAPID SYSTEM LRS-UV/HY/VIS is a 3D printer subsystem with flexible build area and high throughput, high resolution manufacturing. It enables smart functions such as sub-pixelation (SPX) for resolution enhancement, and pixel power control (PPC) to equalize energy per pixel.  It also (...)
来源:VISITECH
光学模块

VISI-3P-LUXBEAM4600 — VISITECH LUXBEAM 4600 DLP 格式器板

LUXBEAM 4600 可服务于需要高分辨率、高帧率和单像素控制的高速工业应用。它包括与柔性电缆连接的 DMD 板和用于存储器管理、排序和 I/O 信令的 VISITECH LUXWARE 固件。该板还具有即时可用的 Web 服务器,该服务器支持与 VISITECH 的高级 LED 驱动器进行通信。千兆以太网接口为主机系统提供快速数据传输功能。通过联系 VISITECH,可获得图像滚动、用于自动对焦的运动控制环路和热量管理等可用固件选项。

如需了解有关 VISITECH 的更多信息,请访问 https://visitech.no/
来源:VISITECH
应用软件和框架

VIALUX-3P-ALP-4 — 适用于 DLPLCRC410 评估模块的 ViALUX ALP-4.1 控制器软件套件

ViALUX 的 ALP-4.1 是一款附件软件包,与德州仪器 (TI) 提供的 DLPLCRC410 评估模块兼容。它支持内置硬件组件并包含相应的驱动器和控制器固件,并将 ViALUX 的 FPGA 逻辑设计用于 EVM 电路板。ALP-4.1 控制器套件支持所有使用 DLPC410 控制器的 DMD:DLP7000、DLP7000UV、DLP9500、DLP9500UV 和 DLP650LNIR。 

支持的刷新率
  • XGA:22 727Hz
  • 1080p:10 752Hz
  • WXGA:10 752Hz
Vialux
来源:ViALUX
封装 引脚 下载
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订购和质量

包含信息:
  • RoHS
  • REACH
  • 器件标识
  • 引脚镀层/焊球材料
  • MSL 等级/回流焊峰值温度
  • MTBF/时基故障估算
  • 材料成分
  • 鉴定摘要
  • 持续可靠性监测
包含信息:
  • 制造厂地点
  • 封装厂地点

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